失效分析
失效分析
通过专业失效分析设备，借助各种测试分析技术和分析程序确认电子元器件的失效现象，分辨其失效模式和失效机理，确认最 终的失效原因，并提出改进设计和制造工艺的建议，防止失效的重复出现。
应用范围
所有失效器件原因分析。
失效分析基本概念
失效分析的基本概念体现在以下几个方面：
· 进行失效分析往往需要进行电测量并采用先进的物理、冶金及化学的分析手段。
· 失效分析的目的是确定失效模式和失效机理，提出纠正措施，防止这种失效模式和失效机理的重复出现。
· 失效模式是指观察到的失效现象、失效形式，如开路、短路、参数漂移、功能失效等。
· 失效机理是指失效的物理化学过程，如疲劳、腐蚀和过应力等。
失效分析的意义
失效分析的意义主要体现在以下几个方面：
· 失效分析是确定芯片失效机理的必要手段。
· 失效分析为有效的故障诊断提供了必要的信息。
· 失效分析为设计工程师不断改进或者修复芯片的设计，使之与设计规范更加吻合提供必要的反馈信息。
· 失效分析可以评估不同测试向量的有效性，为生产测试提供必要的补充，为验证测试流程优化提供必要的信息基础。
失效分析主要步骤和内容
失效讯息收集
外观检查
电特性分析
非破坏分析
失效点查找验证
破坏性分析
确认失效真因
分析结论总结
改善建议
出具分析报告
01- 芯片开封
去除IC封胶，同时保持芯片功能的完整无损，保持die，bondpads，bondwires乃至lead-frame不受损伤，为下一步芯片失效分析实验做准备。
02- SEM扫描电镜/EDX成分分析
包括材料结构分析/缺陷观察、元素组成常规微区分析、精确测量元器件尺寸等等。
03- 探针测试
以微探针快捷方便地获取IC内部电信号。
04- 镭射切割
以微激光束切断线路或芯片上层特定区域。
05- EMMI侦测
EMMI微光显微镜是一种效率极高的失效分错析工具，提供高灵敏度非破坏性的故障定位方式，可侦测和定位非常微弱的发光（可见光及近红外光），由此捕捉各种元件缺陷或异常所产生的漏电流可见光。
06- OBIRCH应用（镭射光束诱发阻抗值变化测试）
OBIRCH常用于芯片内部高阻抗及低阻抗分析，线路漏电路径分析。利用OBIRCH方法，可以有效地对电路中缺陷定位，如线条中的空洞、通孔下的空洞。通孔底部高阻区等，也能有效的检测短路或漏电,是发光显微技术的有力补充。
07- LG液晶热点侦测
利用液晶感测到IC漏电处分子排列重组，在显微镜下呈现出不同于其它区域的斑状影像，找寻在实际分析中困扰设计人员的漏电区域（超过10mA之故障点）。
08- 定点/非定点芯片研磨
移除植于液晶驱动芯片Pad上的金凸块，保持Pad完好无损，以利后续分析或rebonding。
09- X-Ray无损侦测
检测IC封装中的各种缺陷如层剥离、爆裂、空洞以及打线的完整性，PCB制程中可能存在的缺陷如对齐不良或桥接，开路、短路或不正常连接的缺陷，封装中的锡球完整性。
10- SAM(SAT)超声波探伤
可对IC封装内部结构进行非破坏性检测,有效检出因水气或热能所造成的各种破坏如：o晶元面脱层，o锡球、晶元或填胶中的裂缝，o封装材料内部的气孔，o各种孔洞如晶元接合面、锡球、填胶等处的孔洞。
失效分析图片
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